SAMSUNG冲击高端代工新挑战：削减 High-NA EUV 光刻机采购规模

gythy1978

IT之家 8 月 20 日消息，韩国媒体 businesskorea 今天（8 月 20 日）发布博文，曝料称SAMSUNG计划削减 High-NA EUV 采购规模，而且和 ASML 联合创立研究中心项目也遇到诸多障碍。


图源：ASML

SAMSUNG于 2023 年 12 月和 ASML 签署了一份谅解备忘录（MOU），将在韩国首都圈建立一个 EUV 联合研究中心。

IT之家援引消息源报道，SAMSUNG原本计划在未来 10 年内，采购 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后续 Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机，而最新报道称SAMSUNG已经通知 ASML，不仅削减 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻机采购数量，而且后续仅采购 EXE:5200。

报道称这一决定是在副董事长 Jun Young-hyun 被任命为 DS（设备解决方案）部门的新负责人，并重新审查正在进行的项目和投资之后做出的。

一位熟悉情况的业内人士说：

在京畿道华城购买土地建造研究设施的过程以及设计和审批过程都在进行中，然而，随着SAMSUNG决定减少设备引进，相关进程已完全停止。

联合研究中心是否会在其他地方建立，或者建立本身是否会被取消，将在今后的讨论中决定。